103.01 智慧財產權月刊 VOL.181
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本月專題
我國部分設計專利與日本部分意匠專利之差異探討
我國部分設計專利與日本部分意匠專利之差異探討
劉信邦
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徐嘉鴻
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呂正和
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魏鴻麟
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摘要
在知識經濟與全球化的衝擊下，為鼓勵創新研發與創意發展，智慧財產儼然
成為國家發展與產業競爭力的關鍵，尤其是專利制度之保護與運用。近年來各國
專利訴訟中，已出現使用設計專利做為主要訴訟攻擊標的，例如
2011
年起蘋果公
司對三星公司所掀起的訴訟戰爭，大家開始注意設計專利的重要性。
我國將「部分設計」納入設計專利保護標的，一方面乃為了鼓勵傳統產業
對於既有資源之創新設計，另一方面為因應國內產業界在成熟期產品開發設計需
求，爰參酌日本意匠法第
2
條、韓國設計法第
2
條、歐盟設計法第
3
條等之部分設
計（
partial design
）之立法例，以強化設計專利權之保護。而日本意匠法早在
1999
年開始實行部分意匠制度，目的為了保護物品之部分具有新穎特徵之創作，防止
第三者僅模仿其部分新穎特徵，使申請人有更周延的設計保護範圍。
因此，為了解兩國在設計專利制度之現況與未來發展趨勢，特別針對兩國
的部分設計審查實務之差異進行比較研究，對於在設計定義、揭露方式、一設計
一申請、主張國際優先權認可、修正、新穎性及創作性之判斷等議題進行比較分
析，以作為未來我國設計專利相關法規及審查基準之修訂參考。
關鍵字：設計專利、部分設計、部分意匠、實線、虛線
收稿日：
102
年
12
月
06
日
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作者劉信邦現為經濟部智慧財產局專利一組專利助理審查官。
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作者徐嘉鴻現為經濟部智慧財產局專利一組專利審查官。
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作者呂正和現為經濟部智慧財產局專利一組專利約聘審查委員。
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作者魏鴻麟現為經濟部智慧財產局專利一組專利高級審查官兼科長。
