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本月專題
從美國部分設計專利之審查實務中探討可運用的申請策略
104.06 智慧財產權月刊 VOL.198
前視圖
左側視圖 右側視圖
圖
22
揭露要件判斷之圖例（
2
）
（二）案例二缺少陰影線
如圖
22
所示，在該構件之前端兩側凹部（如箭頭①所指之處）及構
件中央有一凹孔的前端（如箭頭②所指之處）為不主張設計之部分，審
查人員認為箭頭①處是介於整個外觀輪廓線中間處，其線條圍繞是完整
明確；而箭頭②處，因虛線在凹孔的邊緣，也是符合明確性；但在箭頭
①與②這兩個虛線之間（如箭頭③所指之處）無法清楚揭露是否為「主
張設計之部分」，因此，審查人員會在審查意見上告知申請人有這個問
題要處理，但並不會指導申請人如何解決，所以一般情況下，申請人可
以在表面畫上陰影線以克服這問題。
①
②
③
（三）案例三缺少邊界線
如圖
23
所示，這案例都是在兩條「主張設計之部分」實線直接接
上兩條「不主張設計之部分」虛線的揭露方式（如箭頭①所指之處），
在
MPEP
提到：「假設有兩條實線的終點（或稱端點），是可以在這兩
條線之間新增一條邊界線，將不是新事項」，因此，在這種情況下，審
查人員會希望申請人能在兩條實線之間加一條邊界線（如箭頭②所指之
處），以確定所請求的申請專利範圍。
