日本2016 年圖像設計保護改革介紹
日本在2014 年1 月31 日公布的政策報告書中,選擇以強化圖像設計保護做為意匠制度的重要改革方針。「產業構造審議智慧財產分科意匠制度小委員會」(簡稱:意匠委員會)爰於2015 年3 月至11 月就意匠審查基準關於圖像設計篇章進行修正討論,其間確立擴大圖像設計保護標的(開放「事後儲存」之圖像設
計),使電腦程式之圖像設計得以納入保護。另外,尚就創作非容易性的判斷提供更明確化的指引,修正後的意匠審查基準於2016 年4 月1 日正式實施。
本文以2016 年圖像設計保護改革為題,介紹政策規劃的過程,最後再以修正後的日本圖像設計制度,特別是在保護標的與保護效力等課題,與歐盟、美國、我國進行分析比較。
從本次圖像設計改革的政策規劃過程觀察,日本在構思替選方案時,一定會先將欲開放之保護標的與意匠權效力進行扣合,並就可能的侵權實態進行沙盤演練,以免新開放之標的在日後無法遏阻侵權問題的發生,值得我國做為構思第2代圖像設計保護制度之參考。
- 相關連結: https://www.tipo.gov.tw/public/AttachmentORG/236%E6%9C%9F-%E8%AB%96%E8%BF%B0.pdf
- 智慧財產局刊登日期: 107.8
- 本網站刊登日期: 2018/8/8
化學類專利記載要件審查案例探討(上)————以請求項中使用商標或商品名稱為例
化學類專利記載要件審查案例探討(下)————以請求項表現方式為例
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