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專利侵害鑑定要點之修訂—設計篇

專利侵害鑑定要點之修訂—設計篇

現階段有關專利之侵權判斷或侵害鑑定,法院或實務界主要是參考民國93年經濟部智慧財產局所完成的「專利侵害鑑定要點(草案)」。時隔十年後,智慧財產局於民國104 年就前述要點進行全面修正,並於2016 年完成「專利侵權判斷要點」(尚未發布),其中有關設計專利的部分,修正重點包括修正設計專
利之侵權判斷流程、刪除「是否包含新穎特徵」之判斷步驟、釐清「確定設計專利權範圍」之內涵、調整侵權判斷主體及導入「三方比對」的判斷方式,並增加民國102 年施行之專利法所擴大保護的部分設計、圖像設計、成組設計及衍生設計等其他設計的侵權判斷內容。除前述修正重點外,本文簡要說明修正緣由及過程中所參考的判決,期望有助於各界理解設計專利的侵權分析、判斷,以利於日後專利侵權爭訟之進行。

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  • 智慧財產局刊登日期: 105/3
  • 本網站刊登日期: 2016/7/5