近年來，我國之設計產業呈蓬勃之發展，並已逐漸成為我國最具實力與代表性之重點產業之一。然而，反觀我國之設計保護制度，並未能跟得上設計產業之腳步，相較於各先進國家的設計保護制度顯得相對保守而明顯不足。有鑑於此，智慧財產局於95 年即開始徵詢業界之修法建議並完成修法之公聽，目前配合整部專利法之修法已送交立法階段。
本文即是為因應未來施行新法之「設計專利」制度時，對於可能遭遇之重點議題提出討論，同時亦藉修法之際對現行新式樣專利實體審查基準重新予以檢視，內容包含幾個主題：「設計定義的修正」、「揭露要件的放寬」、「專利要件的重新檢視」、「各種申請標的所產生的交互關係」。期望藉筆者之拙見，對於未來施行新法之設計專利制度能有所助益，並最終能促使我國未來之設計保護制度更趨完善周全。
壹、前言
近年來，我國之設計產業呈蓬勃之發展，並已逐漸成為我國最具實力與代表性之重點產業之一。然而，反觀我國之設計保護制度，並未能跟得上設計產業之腳步，相較於各先進國家的設計保護制度顯得相對保守而明顯不足。有鑑於此，智慧財產局於95 年即開始徵詢業界之修法建議並完成修法之公聽，目前配合整部專利法之修法（以下稱「專利法修正草案1」）已送交立法階段。
其中有關設計專利之修法重點主要包含：「新式樣」用語修改為「設計」；開放「物品之部分設計（以下簡稱『部分設計』）」之標的；開放「應用於物品之電腦圖像及圖形化使用者介面（以下簡稱『圖像設計』）」之標的；允許「成組物品設計（以下簡稱『成組設計』）」亦可符合一設計一申請之原則；申請專利之「圖說」改為「說明書」及「圖式」；廢除「聯合新式樣」，新增「衍生設計」制度等等。
本文即是為因應未來施行新法之「設計專利」制度時，對於可能遭遇之重點議題提出討論，同時亦藉修法之際對現行新式樣專利實體審查基準（以下簡稱「現行審查基準」）重新予以檢視，並將各議題分別歸納為幾個主題，包含「設計定義的修正」、「揭露要件的放寬」、「專利要件的重新檢視」、「各種申請標的所產生的交互關係」，以下分別說明之。

• 相關連結: https://www.tipo.gov.tw/tw/dl-5536-dd48f2372e40426f961258411685e43d.html
• 智慧財產局刊登日期: 2011.06
• 本網站刊登日期: 2011/11/2