摘要
「專利審查基準第一篇程序審查及專利權管理」在2010 年進行部分修正，修正重點包括專利申請人之處理原則、專利申請案申請日之認定標準、說明書有部分缺頁及圖式（圖面）有部分缺漏之處理原則、外文本處理原則、發明專利申請案之必要圖式、發明或新型專利申請案之指定代表圖，得依職權指定或修正及其他配合相關法規修正事項等等。其中以「申請人之處理原則」與「說明書部分缺頁或圖式或圖面部分缺漏，將影響專利申請日之取得」之實務作業變革最大，也最攸關申請人之權益。智慧局期望透由本次修正，落實專利相關法制、配合實務變革作業及提升程序審查品質。
關鍵字：專利程序審查基準、專利先申請原則、申請日、申請人、說明書、圖式、圖面、外文本、指定代表圖
壹、前言
專利審查基準的作用，係作為審查專利案件之指引，其建構之基礎為專利法與專利法施行細則，並參採納入行政程序法、專利相關辦法、要點、判例、解釋函等規定，使智慧財產局人員審查專利案件時有所遵循，專利申請人或代理人亦得以瞭解辦理專利事項之相關規定。
專利程序審查係由形式上檢視文件是否符合專利法及其施行細則之規定，並為處理，為專利審查程序之前段作業。任何專利申請案必須經程序審查符合規定後，始得以進入後續的處理程序，尤其是專利申請案係於程序審查階段賦予申請日，而申請日又是認定專利申請案是否符合新穎性、進步性等專利要件的基準日，關係到專利申請案的准駁，其認定自應嚴謹，因此程序審查基準具有相當的重要性。

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• 智慧財產局刊登日期: 2011.01
• 本網站刊登日期: 2011/6/15