113.5 智慧財產權月刊 VOL.305 19 專利法制定公布80週年之回顧與展望 專利法公布80 週年特集 又專利法將創作為發明、新型及設計之上位概念，為免將發明與創作併列， 而導致創作僅指新型及設計之誤解，及造成創作之範圍於專利法各條之解釋上有 廣狹不一之情形，爰100 年專利法修正時，將發明、新型與設計併列為創作之類 型12。將創作作為專利三類型之上位概念，固更具涵蓋意義。惟專利法與商標法 類似，同屬產業財產權（昔稱工業財產權），規範核心目的，在於技術及企業 之產業勞動成果（die gewerbliche Leistung）之法律保護（所謂產業權利保護； Gewerblicher Rechtsschutz）13。與保護人類智慧創作（Schöpfung）或所謂人格創 作性成果（Ergebnisse persönliche Kreativität）14 之著作權，兩者有所不同。從比 較法觀察，例如德國法中，此正何以著作權保護要件，偏重於創作完成原則，不 採須註冊或登記審查之形式主義。反觀發明專利，著重於產業財產權之保護與產 業秩序之維持，而須經申請與審查。如符合發明專利要件者，始授與發明專利權。 至新型，雖採取有限度之審查15，但仍須提出申請案。另如設計，雖有採取海牙 公約之寄存制度之外國立法例，但我國設計專利權之取得，則須經申請與審查之 程序，如符合設計專利要件，始可取得該權利。 肆、專利法之目的 民國33年5月4日制定專利法第1條規定，凡新發明之具有工業上價值者， 得依本法呈請專利。由此可見，當時原條文並無立法目的之規定。至民國82 年 12 月28 日修正（83 年1 月21 日公布）專利法時，於第一章總則中第一條規定 特設專利法之立法目的，「為鼓勵、保護、利用發明與創作，以促進產業發展， 12 參考100年修正專利法第1條修正理由。 13 參照Horst-Peter Götting, Gewerblicher Rechtsschutz, 11. Aufl., München: Beck, 2020, §1 Rn.4. 14 參照Ohly, in: Schricker/Loewenhein, Urheberrecht, 6. Aufl., München: Beck, 2020, Einl. UrhG Rn.48. 15 參考100 年修正專利法第112 條修正理由，新型採形式審查，並不進行實體審查，惟如修正 明顯超出申請時之說明書、申請專利範圍或圖式所揭露之範圍，為平衡申請人及社會公眾之 利益，爰增列第六款為形式審查之項目，亦即新型專利申請案，經形式審查認有下列各款情 事之一，應為不予專利之處分：「六、修正，明顯超出申請時說明書、申請專利範圍或圖式 所揭露之範圍者」。
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