智慧財產權月刊 254 期

109.2 智慧財產權月刊 VOL.254 41 本月專題 設計專利圖式明確且充分揭露之判斷 壹、前言 我國專利法規定，圖式是申請設計專利欲取得申請日之必要文件 1 ，且規定 設計專利權範圍以圖式為準 2 ，因此圖式所揭露的內容就是確定專利權範圍之主 要內容。另外，我國施行細則亦規定，設計之圖式，應備具足夠之視圖，以充分 揭露所主張設計之外觀 3 。 依據審查基準之解釋，「足夠之視圖」係指圖式所包含之視圖應足以充分表 現該設計的各個視面，以構成申請專利之設計的整體外觀 4 ，如果申請設計專利 未具備足夠之視圖，無法清楚且明確得知設計專利所請求的保護範圍為何，在我 國審查實務上，會以「圖式未明確揭露申請標的之形狀，以致部分造形難以確認， 不符合專利法第 126 條第 1 項之規定。」為由發出審查意見通知。 國外也有關於申請設計專利必須具備足夠視圖之相關規定，如美國關於圖式 標準之規定 5 ，設計專利申請必須包含能充分且完整揭露請求設計外觀的足夠視 圖（ views ），日本申請意匠也有相關規定，以提供足夠數量之視圖充分揭露該申 請之意匠。 由於各國對於申請設計專利所需具備的「足夠之視圖」要求是有差異的，以 致國外設計專利申請案在我國申請設計專利時，得到不同於國外制度的審查意見 通知。 貳、設計專利可據以實現要件 我國設計專利可據以實現之要件，係申請專利之設計的揭露必須使該設計所 屬技藝領域中具有通常知識者能了解其內容，並可據以實現 6 。我國審查基準所 述之可據以實現要件，與美國、日本之相關規定大致一致。 1 專利法第 125 條第 2 項。 2 專利法第 136 條第 2 項。 3 專利法施行細則第 53 條第 1 項。 4 設計專利審查基準 3-1-9 。 5 37 CFR 1.84 Standards for drawings,USPTO, https://www.uspto.gov/web/offices/pac/mpep/s608. html (last visited Dec.12,2019). 6 設計專利審查基準 3-3-2 。