智慧財產權月刊 234 期

38 107.06 智慧財產權月刊 VOL.234 本月專題 解析日、韓與我國圖像設計審查實務——以一設計一申請原則為中心 壹、前言 日本與韓國在 1986 年與 2003 年導入圖像設計保護後，隨著時代的更迭與數 位科技的發展，時至今日已累積了極為豐富的審查經驗。鑒於圖像設計有可能在 使用過程中產生複數變化之外觀，因此在一設計一申請原則的判斷上，始終令人 不易掌握及預測。為此，日、韓不約而同的在 2016 年圖像設計審查基準修正中， 針對一設計一申請的審查實務，進行大篇幅的規範與案例擴充，本文就日本與韓 國最新規定進行介紹，並簡單比較日、韓與我國在圖像設計一設計一申請原則的 判斷原則，希冀能做為我國未來修訂設計專利審查基準之參考。 貳、日本圖像設計一意匠 1 一申請原則 日本在 1986 年即將物品顯示幕之圖像納入意匠法保護標的，是東亞地區最早 提供圖像設計保護的國家。為了強化、擴充意匠法對於圖像設計的保護，「產業 構造審議智慧財產分科意匠制度小委員會」（簡稱：意匠委員會）爰於 2015 年 3 月至 11 月就意匠審查基準關於圖像設計篇章進行修正討論，其間確立了擴充圖像 設計保護標的（開放「事後記錄」之圖像設計），使電腦軟體之圖像得以納入保 護等措施，另外，尚就一意匠一申請的判斷提供更明確化的指引與案例介紹，修 正後的意匠審查基準已於 2016 年 4 月 1 日正式實施。 一、立法例及一般原則 日本的一意匠一申請原則隨著多次意匠法修正的更迭，逐漸演進成今日的意 匠法第 7 條：「每一意匠登錄申請必須依照經濟產業省命令規定的物品區分表， 就每一意匠各別提出。」一意匠一申請原則落實到圖像設計主要可包含兩個要件， 分別是「物品功能單一性」與「外觀單一性」。 1 我國專利法中之「設計專利」，在日本稱「意匠」，本文乃依日本之用語。