| 封面 | I |
| 中文目錄 | 1 |
| 英文目錄 | 2 |
| 稿件徵求 | 3 |
| 廣告 | 4 |
| 編者的話 | 6 |
| 本月專題— 國際間設計專利發展趨勢 | 8 |
| 日本加入海牙協定後之國際設計專利申請案審查實務解析 | 8 |
| 解析日、韓與我國圖像設計審查實務──以一設計一申請原則為中心 | 37 |
| 論述 | 77 |
| 淺談海牙工業設計國際申請趨勢及實體審查──以美國、韓國及日本為例（上） | 77 |
| 從Impression Products, Inc. v. Lexmark Intern., Inc. 案看美國專利權耗盡原則之最新發展 | 106 |
| 智慧財產權園地 | 124 |
| 智慧財產權資訊 | 126 |
| 智慧財產局動態 | 135 |
| 智慧財產權統計 | 147 |
| 智慧財產權相關期刊論文索引 | 148 |
| 附錄 | 149 |
| 封底 | 154 |