智慧財產權月刊 280期

30 111.4 智慧財產權月刊 VOL.280 論述 我國與中國大陸於圖像設計保護近期變革 我國與中國大陸於圖像設計保護近期變革 胡書慈 * 、吳嘉敏 ** * 作者現為詠晟專利事務所所長。 ** 作者現為詠晟專利事務所總經理。 本文相關論述僅為一般研究探討，不代表本局及任職單位之意見。 壹、前言 貳、我國專利審查基準及中國大陸專利審查指南過往修正重點 一、我國 二、中國大陸 參、我國專利審查基準及中國大陸專利審查指南過往修改所帶來的 實務影響 一、我國 二、中國大陸 肆、 2021 年 8 月 3 日專利審查指南徵求意見稿內容解析 一、圖式要求較以往中國大陸自身規定而言為放寬 二、保護態樣相較我國而言為緊縮 伍、結論