智慧財產權月刊 254 期

60 109.2 智慧財產權月刊 VOL.254 本月專題 設計專利圖式明確且充分揭露之判斷 （二）與我國之差異 日本關於立體設計的意匠申請案，原本要求必須提供正投影六面視 圖，包括部分設計不主張設計的內容也必須提供該些視圖，但在 2019 年 4 月日本公告的意匠審查基準修訂綱要改變了這項規定，如圖 14 之圖例， 未揭露部分視面等同部分意匠，也就是圖 14 左側的申請案等同右側的部 分意匠；而我國則規定具三度空間之立體設計，若為整體設計，則必須 提交立體圖及各個視面之視圖（雖無強制提交六面視圖，但視圖必須六 個視面均揭露）。部分設計方面，若整個均為不主張設計之部分的視圖， 則可不提交，以圖 14 的圖例來看，左側的申請案若要以部分設計來看， 所揭露的視圖全為主張設計之實線，其「後視圖」並不會整個都呈現虛 線，而是至少會有最外圍矩形框線為實線，依據我國現行基準的規定， 這個申請案不管視為整體設計或部分設計，「後視圖」都是不能省略的， 因此審查人員也許可以接受補充之後視圖為簡單之平面矩形而不視為超 出，不過，對此有不同看法者，認為所補充之「平面矩形背部」，並非 由原來所揭露之視圖無歧異得知之內容，仍具超出之疑慮。 伍、結語 美、日及我國設計專利之法規及審查實務，申請設計專利圖式之要求大致可 歸納整理如下： 表 4 　各國設計專利圖式要求比較 我國 美國 日本 清楚、明確及充分揭露 ○ ○ ○ 立體圖 ○ ╳ ╳ 六面視圖或各個視面 ○ ╳ ╳ ○：強制規定　╳：未強制規定