智慧財產權月刊 236 期

54 107.08 智慧財產權月刊 VOL.236 論述 日本 2016 年圖像設計保護改革介紹 日本 2016 年圖像設計保護改革介紹 徐銘夆 * 摘要 日本在 2014 年 1 月 31 日公布的政策報告書中，選擇以強化圖像設計保護做 為意匠制度的重要改革方針。「產業構造審議智慧財產分科意匠制度小委員會」 （簡稱：意匠委員會）爰於 2015 年 3 月至 11 月就意匠審查基準關於圖像設計篇 章進行修正討論，其間確立擴大圖像設計保護標的（開放「事後儲存」之圖像設 計），使電腦程式之圖像設計得以納入保護。另外，尚就創作非容易性的判斷提 供更明確化的指引，修正後的意匠審查基準於 2016 年 4 月 1 日正式實施。 本文以 2016 年圖像設計保護改革為題，介紹政策規劃的過程，最後再以修 正後的日本圖像設計制度，特別是在保護標的與保護效力等課題，與歐盟、美國、 我國進行分析比較。 從本次圖像設計改革的政策規劃過程觀察，日本在構思替選方案時，一定會 先將欲開放之保護標的與意匠權效力進行扣合，並就可能的侵權實態進行沙盤演 練，以免新開放之標的在日後無法遏阻侵權問題的發生，值得我國做為構思第 2 代圖像設計保護制度之參考。 關鍵詞：設計專利、圖像設計、政策規劃、保護標的 * 作者現為經濟部智慧財產局專利高級審查官。 本文相關論述僅為一般研究性之探討，不代表任職單位之意見。