智慧財產權月刊 198 期 - page 12

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本月專題
從美國部分設計專利之審查實務中探討可運用的申請策略
104.06 智慧財產權月刊 VOL.198
(二)圖式
圖式之揭露是申請設計專利最重要的基本要件,通常是以黑白的墨
線圖、灰階的電腦繪圖或照片之視圖呈現,其必須是清楚完整的構成該
設計的整體外觀。此外,樣品與模型無法取代圖式揭露成為請求項,僅
能做為審查人員審查參考。
以下分別針對圖式之揭露方式及應注意事項,說明如下:
1.
足夠視圖
圖式雖無硬性規定必須揭露多少張視圖或提供哪一視面之視圖,
但必須以該申請設計的表現形態,揭露足夠之視圖,例如設計為立體
者,以可清楚呈現該設計之三度空間立體圖為主要視圖,並配合六面
視圖之前視圖、後視圖、左側視圖、右側視圖、俯視圖及仰視圖,或
是以數個立體圖可清楚明確揭露該設計之外觀,則可省略六面視圖。
若設計有包含無表面裝飾之平面者,如圖
1
所示
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,為信用卡(左圖)
或國旗(右圖)這類平面式物品,其厚度微小,則一張視圖就足夠揭
露這設計創作,則可省略其他視圖。此外,該設計之視圖僅是與其他
視圖相同或對稱,則可省略該視圖,但必須在說明書之圖式說明提
及,例如:「後視圖跟前視圖是對稱,故省略」。
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本節圖
1
∼圖
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之相關案例,是依照
USPTO
對內部審查人員的訓練教材而來。
1
 足夠視圖之圖例
I...,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11 13,14,15,16,17,18,19,20,21,22,...142
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