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伍、專利管理面趨勢分析(中華民國專利資料庫)
四、IPC分析

(一)IPC專利件數分析

IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)
圖 21、IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)


以圖示揭示本案之技術分類項目,期能更了解分析主題內主要之布局技術,充分掌握主要IPC分類項目之分布概況。

在我國市場中,本案IPC分析以四階分析其技術分類項目,本案技術主要IPC分類項目以集中在「H02J 7/00」、「H02J 3/00」、「H02J 15/00」及「H02M 7/00」四大類。

從圖 21中觀察可知,IPC分類項目「H02J 7/00:用於電池組之充電或去極化或用於由電池組向負載供電之電路裝置」為主要之技術投資項目,專利產出件數有42件;IPC分類項目「H02J 3/00:交流幹線或交流配電網路之電路裝置」為次要之技術投資項目,專利產出件數有29件;其次依序為IPC分類項目「H02J 15/00:存儲電能之系統」及「H02M 7/00:交流功率輸入變換為直流功率輸出;直流功率輸入變換為交流功率輸出」,專利產出件數分別有24件及23件。

從上述分析可知本案技術之IPC分類項目以「H02J 7/00」為本案技術核心的技術發展標的。各項主要IPC類別定義說明整理如表 13。

表 13、主要IPC類別定義說明表

IPC類別 意義說明 件數
H02J 7/00 用於電池組之充電或去極化或用於由電池組向負載供電之電路裝置 42
H02J 3/00 交流幹線或交流配電網路之電路裝置 29
H02J 15/00 存儲電能之系統 24
H02M 7/00 交流功率輸入變換為直流功率輸出;直流功率輸入變換為交流功率輸出 23

註1:因同1件專利常有複值IPC分類,本案針對4階IPC分類作為分析基礎,如有複值,其4階IPC會重複算之。


另,在圖 22中就本案技術之主要競爭公司在上述主要IPC分類(前四大)項目上專利公開/公告件數進行分析。其中,「台達電子工業」除了「H02J 15/00」無專利產出外,在「H02M 7/00」、「H02J 3/00」及「H02J 7/00」三大分類項目皆均衡發展;「光寶科技」布局重點平均分布在「H02J 15/00」、「H02J 7/00」及「H02M 7/00」;「行政院原子能委員會核能研究所」則布局在「H02J 3/00」、「H02J 7/00」及「H02J 15/00」。

主要競爭產研機構專利布局對應IPC矩陣分析(中華民國專利資料庫)

圖 22、主要競爭產研機構專利布局對應IPC矩陣分析(中華民國專利資料庫)

(二)IPC專利件數歷年趨勢分析

IPC專利件數歷年趨勢分析(中華民國專利資料庫)- H02J 7/00、H02J 3/00

專利查詢期間:公告/公開日1950年~2021/10/20
圖 23、IPC專利件數歷年趨勢分析(中華民國專利資料庫)- H02J 7/00、H02J 3/00

IPC專利件數歷年趨勢分析(中華民國專利資料庫)- H02J 15/00、H02M 7/00

專利查詢期間:公告/公開日1950年~2021/10/20
圖 24、IPC專利件數歷年趨勢分析(中華民國專利資料庫)- H02J 15/00、H02M 7/00

主要IPC與申請年矩陣分析(中華民國專利資料庫)

圖 25、主要IPC與申請年矩陣分析(中華民國專利資料庫)


IPC專利件數歷年趨勢分析係就本案技術所布局之IPC技術領域進行時間點分析,透過時間區間之觀察,分析本案布局技術投資之消長,觀測整體布局技術發展動向,除可作為檢索資料準確性判別依據外,更能提供技術投資上之參考。

在我國市場中,本案技術之主要IPC分類項目,主要分布在「H02J 7/00」、「H02J 3/00」、「H02J 15/00」及「H02M 7/00」。

從圖 23~圖 25中,可發現本案第一大IPC分類項目「H02J 7/00」在2009年首度有專利產出,後續年度申請件數穩定增加,2011年有5件專利產出,後續專利件數下滑,2015年再次爬升至5件,此後各年維持穩定產出。

「H02J 3/00」於2009年開始有相關技術之專利提出申請,2012年起專利產出穩定,2013年便達到高峰,當年度有5件專利提出申請,後續專利申請件數雖都較5件為低,但仍有維持穩定產出。

「H02J 15/00」於2008年首度有技術布局於此,便有高達4件專利產出,其後申請量起伏不定,2012及2015年也各有4件專利提出申請,2018年達到產出高峰,計有5件專利。「H02M 7/00」早在2003年便有首件專利提出申請,後續專利申請量少但都有穩定產出,2018年達產出高峰,計有4件專利提出申請。

其餘IPC分類項目因產出件數有限,故不列入分析。

(三)各國家(地區) IPC專利件數分析

本IPC專利件數分析,以四階為例,並以中華民國、美國及中國大陸作為分析標的。

各國家(地區) IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)-中華民國

圖 26、各國家(地區) IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)-中華民國

各國家(地區) IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)-美國、中國大陸

圖 27、各國家(地區) IPC專利件數分析(中華民國專利資料庫)-美國、中國大陸


本分析係就主要技術開發國家(地區)投資技術領域進行差別化分析,揭示本案技術之主要國家間IPC分類項目之比較分析,透析各國家間之技術本領,了解主要IPC技術在各國布局之概況,推測各國之技術發展趨勢,探討各國發展本案技術是否為主流技術方向。

本案技術的主要投資國家為「中華民國」,其技術主要發展項目以「H02J 7/00」為主,產出件數有28件;H02J 3/00」及「H02J 15/00」分別有21及20件;「H02M 7/00」也有16件。「美國」其技術主要發展項目也是以「H02J 7/00」為主,產出件數有9件。「中國大陸」其技術主要發展項目以「H02M 7/00」、「H02J 3/00」及「H02J 7/00」為主,產出件數分別為4件、3件及3件。